【日本佳能推出纳米压印半导体制造设备可执行电路图形转移】财联社10月13日消息，日本佳能10月13日宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备进行电路图形转移，这是最重要的半导体制造工艺。据佳能介绍，传统的光刻设备将电路图案投影到涂有抗蚀剂的晶片上，而新产品则是通过在晶片上的抗蚀剂上压印带有电路图案的掩模来实现这一点，就像邮票一样。因为电路图案转移过程不经过光学机构，所以掩模上的精细电路图案可以忠实地复制在晶片上。